采用“兩級反滲透+樹脂交換”連續(xù)法生產(chǎn)工藝。將工業(yè)級雙氧水通過二級反滲透過濾后，將大部分的TOC和陰陽離子等雜質(zhì)攔截，得到約80%的電子級雙氧水和20%的副產(chǎn)20%的工業(yè)級雙氧水。為了進一步提高產(chǎn)品質(zhì)量，通過反滲透后的電子級雙氧水可一次進入大孔徑吸附樹脂柱吸附去除少量殘留的TOC，進入陰陽離子吸附樹脂柱去除少量陰陽離子，送至成品罐，經(jīng)過超濾過濾后，得到成品電子級雙氧水。
電子級雙氧水，又稱為“電子級過氧化氫”，是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)工藝中所必須的電子化學(xué)原料。主要用于半導(dǎo)體硅晶片清洗劑、蝕刻劑和光刻膠去除劑，還可用于高級絕緣層制取、電鍍液無機雜質(zhì)去除，電子行業(yè)中銅、銅合金和鎵、鍺的處理，以及太陽能硅晶片的蝕刻和清洗。
目前中國生產(chǎn)電子級雙氧水的生產(chǎn)工藝有：精餾法、離子交換樹脂法、膜分離法、溶劑萃取法、吸附法和結(jié)晶法。我公司主要采用膜分離法和離子交換樹脂法相結(jié)合的先進工藝來制取高純度雙氧水。
該裝置可生產(chǎn)各類質(zhì)量標準的電子級雙氧水，包括EL、UP、UPS、UPSS等質(zhì)量指標。
以下為一種典型的電子級雙氧水生產(chǎn)工藝：
電子級雙氧水，又稱為“電子級過氧化氫”，是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)工藝中所必須的電子化學(xué)原料。主要用于半導(dǎo)體硅晶片清洗劑、蝕刻劑和光刻膠去除劑，還可用于高級絕緣層制取、電鍍液無機雜質(zhì)去除，電子行業(yè)中銅、銅合金和鎵、鍺的處理，以及太陽能硅晶片的蝕刻和清洗。
目前中國生產(chǎn)電子級雙氧水的生產(chǎn)工藝有：精餾法、離子交換樹脂法、膜分離法、溶劑萃取法、吸附法和結(jié)晶法。我公司主要采用膜分離法和離子交換樹脂法相結(jié)合的先進工藝來制取高純度雙氧水。
該裝置可生產(chǎn)各類質(zhì)量標準的電子級雙氧水，包括EL、UP、UPS、UPSS等質(zhì)量指標。
以下為一種典型的電子級雙氧水生產(chǎn)工藝：
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